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山東霍爾德電子科技有限公司

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全自動游離二氧化硅前處理工作站

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號:HD-Si12

品       牌:霍爾德?電子

廠商性質:生產商

所  在  地:濰坊市

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更新時間:2025-02-07 10:12:30瀏覽次數(shù):521次

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加工定制 數(shù)據(jù)儲存量 ≥10000 組
控溫精度 ±0.1℃
全自動游離二氧化硅前處理工作站的工作原理通常基于一定的化學反應和物理分離技術。在焦磷酸法中,工作站會自動加入樣本和焦磷酸,并進行加熱消解、注水、清洗、過濾分離等處理步驟。這些步驟均通過自動控制系統(tǒng)實現(xiàn),無需人工干預。

全自動游離二氧化硅前處理工作站,依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

主要技術參數(shù):
*2.1全自動一體機,自動完成加焦磷酸、消解、降溫、過濾、清洗等實驗步驟,滿足國標要求,保證數(shù)據(jù)準確性。
*2.2儀器具有加水后復溫功能,過濾過程中,可對液體實時混勻,混勻速度可調。
*2.3配備≥12個樣本位,≥12個過濾位。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,特制過濾裝置,耐酸堿耐高溫,實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機,實現(xiàn)不停機做樣。
2.4運行過程中無需轉移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉移過程中的損失。
2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,無需手工添加。
2.6儀器具有自動降溫功能,消解后樣品架離開加熱位,完成快速降溫。
2.7自動控溫加熱,10min內液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。
*2.8采用雙感溫控探頭,實時監(jiān)控液體溫度,控溫精度±0.1℃。
2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,各加熱位溫度均勻一致。
2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,加液精度<1%。
2.11特制攪拌棒,攪拌測溫一體設計,攪拌速度可調節(jié),保證樣品攪拌均勻。
2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動加磷酸,在線制備焦磷酸。
*2.13采用負壓過濾系統(tǒng),兩個樣品可同時過濾,滴液速度和負壓大小均可調節(jié),快速安全。
2.14儀器內置調試軟件,自動校準加液精度。
2.15儀器自動使用0.1mol/L鹽酸和高溫純化水沖洗樣品杯和殘渣,用戶還可根據(jù)需要選擇清洗次數(shù)和清洗量,足量清洗,提高結果準確性。
*2.16采用噴頭噴淋清洗樣品杯,保證清洗全部無殘留。
2.17儀器具有排風裝置,可自動對接排風管道,也可置于通風櫥內使用。
2.18儀器具有試劑液量消耗監(jiān)控,低于預警值能夠實現(xiàn)人性化提醒,確保實驗有效進行。
2.19儀器內置觸摸屏電腦,軟件自動控制,直接編輯輸入信息,無需人工干預。
2.20實驗過程全流程可視,軟件可直觀顯示當前實驗狀態(tài)和進度。
2.21實驗過程中溫度實時顯示,并自動記錄消解攪拌時間。
2.22安全性保護:儀器具有消解加熱過溫保護,整機設備(空氣開關)漏電過流保護。
2.23儀器自動記錄實驗各環(huán)節(jié)過程參數(shù),形成實驗過程記錄,并可支持數(shù)據(jù)打印,導出,數(shù)據(jù)儲存量≥10000組。
2.24儀器支持U盤升級,也可選配遠程升級功能,簡化設備固件升級流程,一鍵升級。


主要配置清單:
3.1全自動游離二氧化硅前處理工作站主機1臺
3.2特制樣品杯12個
3.3特制過濾裝置12個
3.4硅膠管1套
3.5廢液桶1個
3.6試劑桶1個
3.7實驗用水自動加熱恒溫裝置1套
3.8系統(tǒng)控制軟件1套
3.9慢性定量濾紙1盒
3.10自動加焦磷酸裝置(選配)1套


使用與維護:
使用注意事項:
在使用前,應仔細閱讀儀器說明書,了解儀器的操作方法和注意事項。
按照說明書中的要求準備樣品和試劑,并確保樣品和試劑的質量符合分析要求。
在操作過程中,應注意觀察儀器的運行狀態(tài)和反應情況,及時發(fā)現(xiàn)并處理異常情況。
維護保養(yǎng):
定期對儀器進行清潔和保養(yǎng),確保儀器的清潔度和性能。
定期檢查儀器的各個部件和連接處是否松動或損壞,并及時進行修復或更換。
長期不使用時,應將儀器存放在干燥、通風、無腐蝕性氣體的環(huán)境中,以確保儀器的長期穩(wěn)定性。

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